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光學系統
儀器類型：單光束全反射消色差光學系統
單色器：消色差C-T型，焦距350mm
色散原件：平面衍射光柵，1800條/mm，刻畫面積40×40m㎡，閃爍波長250nm
光譜帶寬(nm)：0.1、0.2、0.7、1.4nm四檔自動切換
波長范圍(nm)：190-900
波長準確度(nm)：±0.20
波長重復性(nm)：≤0.05
光譜帶寬偏差：±0.2nm
分辨能力：可分辨Mn三線（279.5nm和279.8nm線峰谷≤30%）
光度性能
讀數方式：透光率、吸光度、濃度
光度范圍：0-125%，-0.1-3.00A
靜態基線漂移：(Cu)±0.003A/30min
動態基線漂移：(Cu)±0.003A/30min
雙背景校正：氘燈背景校正背景： ＞50倍以上校正能力（1Abs），校正波長可延伸到500nm以上
燈架系統：8燈位垂直安裝，自動換燈，二維自動微調對光系統。
檢測器：高靈敏度寬光譜范圍低噪聲光電倍增管
原子化系統：火焰
火焰分析
特征濃度(Cu)：(Cu)≤0.02ug/mL/1%
檢出限(Cu)：(Cu)≤0.005ug/Ml
精密度：RSD≤0.5%
燃燒器：10cm單縫金屬鈦燃燒器，高度自動設定，水平位置免調
噴霧器：高效玻璃霧化器
霧化室：聚四氯乙烯霧化室，即使對腐蝕性極強的物質也有較高的抗蝕性
燃氣控制：德國進口質量流量計，自動控制氣體流量
安全措施：燃氣泄露、空氣欠壓、異常滅火、未水封自動報警和自動安全保護；霧化室自動泄壓，空氣常開。
石墨爐分析
特征量：對鎘Cd的特征量≤0.4×10-12g
對銅Cd的特征量≤20×10-12g
檢出限：對鎘Cd的特征量≤0.5×10-12g
精密度：對鎘Cd、對銅Cu的精密度；自動進樣≤1%，手動進樣≤2%
石墨爐陳升溫范圍：室溫～3000℃
大功率升溫控制范圍：1500℃～3000℃
升溫速率：最大升溫速率2000℃/S
原子化升溫方式：光控升溫，時控升溫，一般升溫
石墨管外保護氣體流量：1L/min
石墨管內保護氣體流量：可設停氣、開（0-50mL/min微流量或300-400mL/min固定流量）
安全措施：冷卻水流量、保戶氣壓力、爐體溫度、石墨管安裝自動報警和安全保護
數據處理
測量方式：火焰法，石墨爐法，氰化物發生-原子吸收法，火焰發射法
濃度計算方式：標準曲線法(共6種線性、非線性擬合方法)，標準加入法，內標法
重復測量次數：1-30次，計算平均值，給出標準偏差和相對標準偏差
報表打印：參數打印，數據結果打印，圖形打印
其他
計算機、通訊接口：外接、RS-232接口
外形尺寸1×b×h nm：800×600×590
質量(重量)kg：85
電源要求：(220±22)V，頻率(50±1)Hz，詳見安裝條件
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